Тема: Технология изготовления плат полупроводниковых интегральных микросхем

В данной курсовой работе рассмотрена технология изготовления плат полупроводниковых интегральных микросхем . Полупроводниковая интегральная микросхема – это микросхема , элементы которой выполнены в приповерхностном слое полупроводниковой подложки.

...для поверхностного монтажа» (в отличие от компонентов для пайки в отверстия на плате ). 1. Устройство интегральных микросхем .
...методами, известными из технологии дискретных полупроводниковых приборов (селективная диффузия, эпитаксия и др.).

2. Производить сушку плат при температуре 600 – 700 0С в течение 10-15 мин, в зависимости от степени влажности плат .
256 с., ил. 6. Березин А.С., Мочалкина О.Р. Технология и конструирование интегральных микросхем .

Для изготовления полупроводниковых интегральных схем используют в большинстве случаев пластины монокристаллического кремния p...
Поскольку на одной пластине или плате формируют большое число микросхем , то индивидуальные методы обработки пластин и...

Стремление расширить область применения полупроводниковых ИМС привело к созданию другого типа комбинированных микросхем (рис.
... интегральной технологии на общем кристалле. Литература. 1. Достанко А. П. Технология интегральных схем. –

В отличие от печатных плат (в которых в едином цикле по интегральной технологии одновременно...
...были интегральные структуры, это были объёмные макеты полупроводниковых ИС, доказывающие идею изготовления всех элементов схемы из одного материала...

В отличие от печатных плат (в которых в едином цикле по интегральной технологии одновременно...
...были интегральные структуры, это были объёмные макеты полупроводниковых ИС, доказывающие идею изготовления всех элементов схемы из одного материала...