Тема: Тонкие пленки нитрида кремния: синтез и структура

...полупроводника диэлектрических пленок (двуокиси или нитрида кремния ), фотолитографии, нанесения тонких металлических пленок распылением в вакууме...
При последующем проявлении происходит удаление с подложки ненужных участков пленки фоторезиста и...

...частиц в зависимости от толщины пленки и многих других. Одним из приборов, в которых используются сверхтонкие слои двуокиси...
...инжекцию заряда в нитрид кремния при подаче высокого потенциала на затвор транзистора (цикл записи или стирания...

- заполнение вытравленных канавок слоем SiO 42 0; - удаление нитрида кремния ; - формирование в локальных областях кремния n типа транзисторных структур.
В полупроводниковых ИС их выполняют с помощью тонких металлических пленок , нанесенных на...

Увидеть трехмерную структуру микромира удалось только тогда, когда на смену оптическому лучу пришла тончайшая игла.
...обычно делают из кремния или нитрида кремния . Разрешающая способность метода составляет примерно 0,1-1 нм по горизонтали и 0,01...

Ими могут быть как тонкие слои тяжелых металлов (например, Та или TaSi2), так и диэлектриков.
От загрязнений поверхности кремния вследствие полимеризации углеводородов ИИ проводят через окисную пленку , которую затем удаляют.